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01 導言 X 射線反射鏡是一種能反射和聚焦短波長 X 射線（束）的反射光學元件，廣泛應用于各種分析儀器中。為了有效表征 X 射線的光學和物理性質，各種反射鏡形態須達到平均粗糙度在亞納米級的高表面精度。便攜式 X 射線元素分析儀基于全反射 X 射線熒光 (TXRF) 分析技術構建，應用于需要...
主要使用X射線束激發熒光輻射，第一次是在1928年由格洛克爾和施雷伯提出的。到了現在，該方法作為非破壞性分析技術，并作為過程控制的工具，廣泛應用于采掘和加工工業。原則上，最輕的元素，可分析出鈹（z=4），但由于儀器的局限性和輕元素的低X射線產量，往往難以量化，所以針對能量分散式的X射線熒光光譜儀...
X射線熒光光譜（XRF）技術是一項可用于確定各類材料成份構成的分析技術，已經成熟運用多年。其應用方向主要包括金屬合金、礦物、石化產品等等。而全反射X射線熒光作為X射線熒光中的后起之秀，因為制樣簡單且具有可與原子吸收光譜 (AAS), 電感耦合等離子體質譜 (ICP-MS) 比擬的低至PPb級別...
X射線熒光光譜化學分析熔鑄玻璃片法，是用熔鑄玻璃片法制樣，以消除礦物和粒度效應，將樣品鑄成適合X射線熒光光譜儀測量形狀的玻璃片，測量玻璃片中待測元素的X射線熒光強度，根據校準曲線來得到待測元素含量...
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