GB/T 42789-2023
硅片表面光澤度的測(cè)試方法
Test method for surface gloss of silicon wafer
GBT42789-2023, GB42789-2023
- 標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
- GB/T 42789-2023
- 別名
- GBT42789-2023, GB42789-2023
- 發(fā)布
- 2023年
- 總頁(yè)數(shù)
- 8頁(yè)
- 發(fā)布單位
- 國(guó)家質(zhì)檢總局
- 當(dāng)前最新
- GB/T 42789-2023
- 適用范圍
- 本文件描述了采用光反射法以20°,60°或85°幾何條件測(cè)試硅片表面光澤度的方法。 本文件適用于硅腐蝕片、拋光片、外延片表面光澤度的測(cè)試，不適用于表面有圖形的硅片的測(cè)試
| 術(shù)語(yǔ) | 描述 |
|---|---|
| 光澤度 gloss | 對(duì)于規(guī)定的光源和接收角，從物體鏡向方向反射的光通量與從折射率為1.567的黑玻璃鏡向方向反射的光通量之比。 |
GB/T 42789-2023 中提到的儀器設(shè)備
| 光源 符合JJG696-2015規(guī)定的D65照明體或A光源 | 提供規(guī)定入射角的光束，確保測(cè)試條件的一致性。 |
| 接收器 符合JJG696-2015中視覺函數(shù)V(λ)的要求 | 用于收集和測(cè)量樣品反射光強(qiáng)度。 |
| 標(biāo)準(zhǔn)板 均勻、穩(wěn)定，定期校準(zhǔn) | 用于校準(zhǔn)光澤度計(jì)的標(biāo)準(zhǔn)參考。 |
專題
GB/T 42789-2023相似標(biāo)準(zhǔn)
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