ASTM F2113-01
電子薄膜用高純金屬濺射靶材純度等級及雜質含量分析和報告標準指南

Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications

被代替

標準號

ASTM F2113-01

發布

2001年

發布單位

美國材料與試驗協會

替代標準

ASTM F2113-01e1

當前最新

ASTM F2113-11

 

 

適用范圍

1.1 本指南涵蓋在制造半導體電子器件時用作薄膜源材料的濺射靶材。它應用于制定特定材料的目標規格并應在其中引用。
1.2 本標準規定了純度等級水平、分析方法和雜質含量報告方法和格式。
1.2.1 等級名稱是總金屬雜質含量的度量。牌號名稱不一定表明適合特定應用，因為總金屬雜質以外的因素可能會影響性能。

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