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GB 51034-2014
多晶硅工廠設(shè)計(jì)規(guī)范

Code for design of polysilicon plant


標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
GB 51034-2014
發(fā)布
2014年
總頁(yè)數(shù)
121頁(yè)
發(fā)布單位
國(guó)家住房和城鄉(xiāng)建設(shè)部
當(dāng)前最新
GB 51034-2014
 
 
引用標(biāo)準(zhǔn)
G GB 50009 GB 50010 GB 50011 GB 50013 GB 50014 GB 50015 GB 50016 GB 50019 GB 50025 GB 50029 GB 50034 GB 50040 GB 50041 GB 50046 GB 50050 GB 50052 GB 50057 GB 50058 GB 50073 GB 50112 GB 50140 GB 50160 GB 50177 GB 50187 GB 50189 GB 50217 GB 50222 GB/T 50102
適用范圍
本規(guī)范適用于采用三氯氫硅氫還原法的新建、擴(kuò)建和改建多晶硅工廠的工程設(shè)計(jì),也適用于硅烷歧化法多晶硅廠中三氯氫硅合成、四氯化硅氫化和氯硅烷提純的工程設(shè)計(jì)。
術(shù)語(yǔ)描述
三氯氫硅氫還原法
Trichlorosilane Hydrogen Reduction Process
經(jīng)過(guò)不斷完善的多晶硅生產(chǎn)主流工藝,是將高純?nèi)葰涔枧c高純氧氣按一定比例通入還原爐,發(fā)生還原或熱分解反應(yīng),在1050℃左右的高純硅芯基體表面上沉積生長(zhǎng)多晶硅;同時(shí)具備回收.利用生產(chǎn)過(guò)程中伴隨產(chǎn)生的氧氣、氯化氨`.四氯化硅等副產(chǎn)物以及副產(chǎn)熱能,最大限度地實(shí)現(xiàn)“物料內(nèi)部循環(huán)能量綜合利用”的多晶硅生產(chǎn)工藝。
多晶硅
Polysilicon
單質(zhì)硅的一種形態(tài),硅原子以晶格形態(tài)排列成許多晶核,晶核長(zhǎng)成晶面取向不同的晶粒,晶粒組合結(jié)晶成多晶硅。根據(jù)用途可分為太陽(yáng)能級(jí)和半導(dǎo)體級(jí)。
還原尾氣干法回收
Reduction Off-Gas Recovery by Dry Method
一種相對(duì)于傳統(tǒng)濕法回收尾氣工藝的方法,利用尾氣中各組分物理化學(xué)性質(zhì)的差異采用冷凝.吸收,解析.吸附等方法 ,將其逐一分開(kāi)回收、提純 ,再重新返回生產(chǎn)系統(tǒng)循環(huán)利用。

GB 51034-2014 中提到的儀器設(shè)備

壓縮空氣站 提供壓縮空氣的設(shè)施,用于生產(chǎn)過(guò)程中的各種氣動(dòng)設(shè)備
制氮站 用于生產(chǎn)過(guò)程中所需的高純度氮?dú)?/td>
制氨站 用于生產(chǎn)過(guò)程中所需的氫氣

其他標(biāo)準(zhǔn)


專題


GB 51034-2014相似標(biāo)準(zhǔn)


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