薄膜 測量
本專題涉及薄膜 測量的標準有191條。
國際標準分類中，薄膜 測量涉及到表面處理和鍍涂、分析化學、麻袋、袋子、長度和角度測量、玻璃、輻射測量、食品綜合、半導體分立器件、電學、磁學、電和磁的測量、陶瓷、導體材料、印制電路和印制電路板、有機化學、物理學、化學、詞匯、攝影技術、頻率控制和選擇用壓電器件與介質器件、電子顯示器件、電子元器件綜合、光學和光學測量、半導體材料、罐、聽、管、電子電信設備用機電元件、電子設備用機械構件、橡膠和塑料工業的生產工藝、橡膠和塑料制品、無損檢測、石油和天然氣工業設備、熱力學和溫度測量、電氣設備元件、包裝材料和輔助物、造船和海上構筑物綜合、涂料和清漆、建筑材料、潤滑劑、工業油及相關產品、非金屬礦。
在中國標準分類中，薄膜 測量涉及到材料防護、基礎標準與通用方法、工業技術玻璃、包裝材料與容器、基礎標準與通用方法、電離輻射計量、基礎標準與通用方法、電磁計量、有機化工原料綜合、半導體分立器件綜合、特種陶瓷、電子元件綜合、物理學與力學、顏色、合成樹脂、塑料基礎標準與通用方法、包裝方法、電工材料和通用零件綜合、標志、包裝、運輸、貯存綜合、電子設備專用微特電機、微型電機、物質成份分析儀器與環境監測儀器綜合、感光材料、塑料型材、基礎標準和通用方法、其他、金屬理化性能試驗方法綜合、金屬無損檢驗方法、長度計量、流量與物位儀表、涂料基礎標準與通用方法、涂料、磁性元器件、電子技術專用材料、電化學、熱化學、光學式分析儀器、基本有機化工原料、、電工儀器、儀表綜合、潤滑油、建材原料礦。
未注明發布機構，關于薄膜 測量的標準
- GB/T 38518-2020 柔性薄膜基體上涂層厚度的測量方法
中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局、中國國家標準化管理委員會，關于薄膜 測量的標準
- GB/T 36053-2018 X射線反射法測量薄膜的厚度、密度和界面寬度 儀器要求、準直和定位、數據采集、數據分析和報告
- GB/T 33826-2017 玻璃襯底上納米薄膜厚度測量 觸針式輪廓儀法
國家質檢總局，關于薄膜 測量的標準
- GB/T 31556.2-2015 包裝袋 尺寸描述和測量方法 第2部分:熱塑性軟質薄膜袋
- GB/T 31227-2014 原子力顯微鏡測量濺射薄膜表面粗糙度的方法
- GB/T 30447-2013 納米薄膜接觸角測量方法
- GB/T 15053-2008 使用輻射顯色薄膜和聚甲基丙烯酸甲酯劑量測量系統測量吸收劑量的標準方法
- GB/T 15053-1994 使用輻射顯色薄膜和聚甲基丙烯酸甲脂劑量測量系統測量吸收劑量標準方法
國際電工委員會，關于薄膜 測量的標準
- IEC 62899-503-3:2021 印刷電子.第503-3部分:質量評定.印刷薄膜晶體管接觸電阻的測量方法.傳輸長度法
- IEC 61788-17:2021 超導性 - 第17部分:電子特性測量 - 局部臨界電流密度及其在大面積超導薄膜中的分布
- IEC 61788-17-2021 RLV 超導性第17部分:電子特性測量大面積超導薄膜中的局部臨界電流密度及其分布
- IEC 61788-17:2021 RLV 超導性第17部分:電子特性測量大面積超導薄膜中的局部臨界電流密度及其分布
- IEC 62899-202-7-2021 印刷電子.第202-7部分:材料.印刷薄膜.用90°剝離法測量柔性襯底上印刷層的剝離強度
- IEC 62899-202-7:2021 印刷電子.第202-7部分:材料.印刷薄膜.用90°剝離法測量柔性襯底上印刷層的剝離強度
- IEC 62899-503-1:2020 印刷電子.第503-1部分:質量評定.印刷薄膜晶體管位移電流測量的試驗方法
- IEC 62899-503-1-2020 印刷電子.第503-1部分:質量評定.印刷薄膜晶體管位移電流測量的試驗方法
- IEC TS 62607-5-3:2020 納米制造關鍵控制特性第5-3部分:薄膜有機/納米電子器件電荷載流子濃度的測量
- IEC TS 62607-5-3-2020 納米制造關鍵控制特性第5-3部分:薄膜有機/納米電子器件電荷載流子濃度的測量
- IEC 62047-30:2017 半導體器件 - 微機電器件 - 第30部分:MEMS壓電薄膜機電轉換特性的測量方法
- IEC 62047-30-2017 半導體器件 - 微機電器件 - 第30部分:MEMS壓電薄膜機電轉換特性的測量方法
- IEC 62047-17:2015 半導體器件 - 微機電器件 - 第17部分:用于測量薄膜機械性能的膨脹測試方法
- IEC TS 62607-5-1:2014 納米制造關鍵控制特性第5-1部分:薄膜有機/納米電子器件載流子傳輸測量
- IEC TS 62607-5-1-2014 納米制造關鍵控制特性第5-1部分:薄膜有機/納米電子器件載流子傳輸測量
- IEC/TS 62607-5-1-2014 納米制造.關鍵控制特性.第5-1部分:薄膜有機/納米電子設備.載體運輸測量
- IEC 61788-17:2013 超導性 - 第17部分:電子特性測量 - 局部臨界電流密度及其在大面積超導薄膜中的分布
- IEC 61788-17-2013 超導性.第17部分:電氣特性測量值.大面積超導薄膜的局部臨界電流密度及其分布
- IEC 62047-14-2012 半導體裝置.微電機裝置.第14部分:金屬薄膜材料的成型極限測量方法
- IEC 61788-15:2011 超導性 - 第15部分:電子特性測量 - 超導體薄膜在微波頻率下的內在表面阻抗
- IEC 61788-15-2011 超導性.第15部分:電子特性測量.微波頻率下超導薄膜的固有表面阻抗
- IEC 62047-8:2011 半導體器件 - 微機電器件 - 第8部分:用于薄膜拉伸性能測量的帶鋼彎曲試驗方法
- IEC 62047-8-2011 半導體裝置.微電機裝置.第8部分:薄膜的拉力特性測量的帶狀抗彎試驗方法
- IEC 60746-4-1992 電化學分析儀性能表示法 第4部分:用包有薄膜的電流傳感器測量水中的溶解氧
英國標準學會，關于薄膜 測量的標準
- BS EN IEC 61788-17-2021 超導性. 第17部分: 電氣特性測量值. 大面積超導薄膜的局部臨界電流密度及其分布
- BS EN 62047-17-2015 半導體器件. 微型機電裝置. 用于測量薄膜力學性能的脹形試驗方法
- BS PD IEC/TS 62607-5-1-2014 納米制造. 關鍵控制特性. 有機薄膜/納米電子器件. 載波傳輸測量
- BS ISO 17861-2014 精細陶瓷(高級陶瓷, 高級工業陶瓷). 在潮濕條件下精細陶瓷薄膜光譜透射率的測量方法
- BS ISO 17861-2014 精細陶瓷(高級陶瓷, 高級工業陶瓷). 在潮濕條件下精細陶瓷薄膜光譜透射率的測量方法
- BS EN 61788-17-2013 超導性.電氣特性測量值.大面積超導薄膜的局部臨界電流密度及其分布
- BS EN 61788-17-2013 超導性.電氣特性測量值.大面積超導薄膜的局部臨界電流密度及其分布
- BS EN 62047-14-2012 半導體裝置.微型電機裝置.金屬薄膜材料的成形極限測量方法
- BS EN 62047-8-2011 半導體裝置.微電機裝置.薄膜拉伸性能測量用帶材彎曲試驗方法
- BS EN 15042-1-2006 覆層厚度測量和表面波紋表征.使用激光感應表面聲波法測定薄膜的彈性常數,密度和厚度用指南
- BS EN 26591-2-1993 包裝袋.第2部分:測量方法和說明.熱塑性塑料軟薄膜空袋
- BS 5806-1979 云母塊、薄片、薄膜和碎片的厚度測量法
國際標準化組織，關于薄膜 測量的標準
- ISO 23738:2021 精細陶瓷（高級陶瓷 高級工業陶瓷）.潮濕條件下精細陶瓷薄膜光譜反射率的測量方法
- ISO 17861-2014 精細陶瓷(高級陶瓷, 高級工業陶瓷). 在潮濕條件下精細陶瓷薄膜光譜透射率的測量方法
- ISO 17861:2014 精細陶瓷（先進陶瓷 先進技術陶瓷） - 潮濕條件下精細陶瓷薄膜的光譜透射率測量方法
- ISO 15989 Technical Corrigendum 1-2007 塑料.薄膜和薄片.電暈處理薄膜水接觸角的測量.技術勘誤1
- ISO 15989:2004 塑料制品；薄膜和薄片——電暈處理薄膜水接觸角的測量
- ISO 15989-2004 塑料.薄膜和薄板.電暈處理薄膜的水接觸角度的測量
- ISO/TTA 4:2002 測量硅襯底上薄膜的導熱率
- ISO/TTA 4-2002 硅基質上薄膜導熱性的測量
- ISO 8311:1989 冷凍輕烴流體.船用薄膜罐和獨立棱柱罐的校準.物理測量
- ISO 6591-2:1985 包裝與包裝；麻袋和麻袋；說明和測量方法第2部分:熱塑性柔性薄膜制成的空袋
- ISO 6591-2-1985 包裝 袋 說明及測量方法 第2部分:熱塑柔性薄膜空袋
- ISO 5972:1978 云母塊、薄片、薄膜和裂片.厚度測量
，關于薄膜 測量的標準
- SIS 18 41 58-1973 油漆．由刻度盤指示器線性測量測定薄膜厚度
美國材料與試驗協會，關于薄膜 測量的標準
- ASTM D8331/D8331M-20 用加固光學干涉法用非破壞性方法測量薄膜涂層厚度的標準試驗方法
- ASTM D5796-20 使用鏜孔裝置通過破壞性方法測量薄膜線圈涂覆系統的干膜厚度的標準測試方法
- ASTM D7767-11(2018) 從輻射可固化丙烯酸酯單體 低聚物和共混物和薄膜制成的測量揮發物的標準測試方法
- ASTM E2444-11(2018) 標準術語 涉及對薄膜 反射膜的測量
- ASTM E2244-11(2018) 使用光學干涉儀測量薄膜 反射膜的面內長度的標準測試方法
- ASTM F1711-96(2016) 使用四點探針法測量平板顯示器制造薄膜導體的薄片電阻的標準實踐
- ASTM F1844-97(2016) 使用非接觸式渦流量規測量平板顯示器制造薄膜導體薄片電阻的標準實踐
- ASTM D5796-10(2015) 使用鏜孔裝置通過破壞性方法測量薄膜線圈涂覆系統的干膜厚度的標準測試方法
- ASTM E2244-11e1 使用光學干涉儀測量薄膜 反射膜的面內長度的標準測試方法
- ASTM E2244-11 使用光學干涉儀測量薄膜 反射膜的面內長度的標準測試方法
- ASTM D7767-11 從輻射可固化丙烯酸酯單體 低聚物和共混物和薄膜制成的測量揮發物的標準測試方法
- ASTM E2444-11 反射薄膜測量術語
- ASTM E2444-11e1 反射薄膜測量術語
- ASTM E2246-2011e1 采用光學干涉儀測量反射薄膜應變梯度的標準試驗方法
- ASTM E2246-2011 用光學干涉儀測量反射薄膜應變梯度的標準試驗方法
- ASTM E2444-2011 反射薄膜測量相關術語
- ASTM E2244-2011e1 采用光學干涉儀測量反射薄膜共面長度的標準試驗方法
- ASTM E2444-2011e1 與反射薄膜上測量的相關術語
- ASTM E2244-2011 利用光學干涉薄膜測量反射薄膜平面長度的標準試驗方法
- ASTM E2245-2011e1 采用光學干涉儀測量反射薄膜殘余應變的標準試驗方法
- ASTM D5796-10 使用鏜孔裝置通過破壞性方法測量薄膜線圈涂覆系統的干膜厚度的標準測試方法
- ASTM D5796-03(2010) 使用鏜孔裝置通過破壞性方法測量薄膜線圈涂覆系統的干膜厚度的標準測試方法
- ASTM D5796-2010 用鉆孔裝置進行破壞法測量薄膜涂覆系統的干膜厚度的標準試驗方法
- ASTM E2120-2010(2016) 用于涂料薄膜中鉛含量測量的便攜式X射線熒光分光計的性能評估標準實施規程
- ASTM D5946-2009 用測量水接觸角測量結果測定經電暈處理的聚合物薄膜的試驗方法
- ASTM F1844-97(2008) 使用非接觸式渦流量規測量平板顯示器制造薄膜導體薄片電阻的標準實踐
- ASTM F1711-96(2008) 使用四點探針法測量平板顯示器制造薄膜導體的薄片電阻的標準實踐
- ASTM E252-2006(2013) 采用質量測量的箔片, 薄板和薄膜厚度的標準試驗方法
- ASTM E252-2006 質量測量法測定箔片、薄板和薄膜厚度的標準試驗方法
- ASTM E2244-05 使用光學干涉儀測量薄膜 反射膜的面內長度的標準測試方法
- ASTM E252-05 用質量測量法測定薄片和薄膜厚度的標準試驗方法
- ASTM E2444-05e1 反射薄膜測量術語
- ASTM E2444-05 反射薄膜測量術語
- ASTM E252-2005 質量測量法測定薄箔、薄板和薄膜厚度的標準試驗方法
- ASTM E2246-2005 用光學干涉儀測量反射薄膜應變梯度的標準試驗方法
- ASTM E2245-2005 用光學干涉儀測量反射薄膜殘余應力的標準試驗方法
- ASTM E2244-2005 用光學干涉儀測量反射薄膜共面長度的標準試驗方法
- ASTM E2444-2005e1 與反射薄膜上測量的相關術語
- ASTM E2444-2005 與反射薄膜上測量的相關術語
- ASTM E252-04 用質量測量法測定薄膜厚度的標準試驗方法
- ASTM D5946-2004 用水觸點角度測量法測定電暈處理聚合物薄膜的標準試驗方法
- ASTM E252-2004 用質量測量法測定薄箔和薄膜厚度的標準試驗方法
- ASTM D5796-03 使用鏜孔裝置通過破壞性方法測量薄膜線圈涂覆系統的干膜厚度的標準測試方法
- ASTM D5796-2003(2010) 用鉆孔裝置破壞性測量薄膜盤繞覆層系統的干膜厚度的標準試驗方法
- ASTM D5796-2003 用鉆孔裝置破壞性測量薄膜盤繞覆層系統的干膜厚度的標準試驗方法
- ASTM F1711-96(2002) 用四點探針測量平板顯示器制造用薄膜導體片電阻的標準實施規程
- ASTM F1844-97(2002) 使用非接觸式渦流量規測量平板顯示器制造薄膜導體薄片電阻的標準實踐
- ASTM E2244-02 使用光學干涉儀測量薄膜 反射膜的面內長度的標準測試方法
- ASTM E2245-2002 用光學干涉儀測量反射薄膜殘余應力的標準試驗方法
- ASTM E2244-2002 用光學干涉儀測量反射薄膜共面長度的標準試驗方法
- ASTM E2246-2002 用光學干涉儀測量反射薄膜應變梯度的標準試驗方法
- ASTM D5895-2001e1 機械記錄器用有機涂層烘干或硫化期間薄膜產生時間測量用標準試驗方法
- ASTM D5946-2001 利用水流接點角度的測量對電暈處理聚合物薄膜標準測試方法
- ASTM D5895-2001 機械記錄器用有機涂層烘干或硫化期間薄膜產生時間測量用標準試驗方法
- ASTM E2120-2000 涂料薄膜中鉛含量測量用便攜式X射線熒光光譜儀性能評估的標準實施規程
- ASTM D5796-99 使用鏜孔裝置通過破壞性方法測量薄膜線圈涂覆系統的干膜厚度的標準測試方法
- ASTM F1225-99 測量薄膜和織物筒的帶狀出口力的標準試驗方法
- ASTM F1225-99(2003) 測量薄膜和織物筒的帶狀出口力的標準試驗方法
- ASTM D5796-1999 用鉆孔裝置進行破壞法測量薄膜涂覆系統的干膜厚度的標準試驗方法
- ASTM D5946-1999 利用水流接點角度的測量對電暈處理聚合物薄膜標準測試方法
- ASTM F1844-97 使用非接觸式渦流量規測量平板顯示器制造薄膜導體薄片電阻的標準實踐
- ASTM F1844-1997(2002) 用非接觸式渦流計測量平板顯示器制造用薄膜導體耐力的標準操作規程
- ASTM F1844-1997(2008) 用非接觸式渦流計測量平板顯示器制造用薄膜導體耐力的標準實施規程
- ASTM F1844-1997(2016) 采用非接觸式渦流計測量平板顯示器制造用薄膜導體的薄層電阻的標準實施規程
- ASTM F1844-1997 用非接觸式渦流計測量平板顯示器制造用薄膜導體耐力的標準操作規程
- ASTM F1711-96 用四點探針測量平板顯示器制造用薄膜導體片電阻的標準實施規程
- ASTM F673-90(1996)e1 用非接觸渦流計測量半導體薄片電阻率或半導體薄膜片電阻的標準試驗方法
- ASTM D5895-1996 機械記錄器用有機涂層烘干或硫化期間薄膜產生時間測量用標準試驗方法
- ASTM F1711-1996(2016) 采用四點探針法測量平板顯示器制造用薄膜導體的薄層電阻的標準實施規程
- ASTM F692-97 測量可焊薄膜與基底粘合強度的標準試驗方法
工業和信息化部，關于薄膜 測量的標準
- HG/T 5659-2019 光學功能薄膜 黃變的測量方法
行業標準-化工，關于薄膜 測量的標準
- HG/T 5077-2016 光學功能薄膜 近紅外光譜透過率的測量方法
- HG/T 4608-2014 光學功能薄膜 顏色的測量方法
- HG/T 4951-2016 光學功能薄膜 對比度測量方法
日本工業標準調查會，關于薄膜 測量的標準
- JIS R1698-2015 在潮濕條件下精細陶瓷薄膜光譜反射率的測量
- JIS R1694-2012 潮濕條件下精細陶瓷薄膜的光譜透射率測量
- JIS R1694-2012 潮濕條件下精細陶瓷薄膜的光譜透射率測量
- JIS K5600-4-5 ERRATUM 1-2002 涂料試驗方法.第4部分:薄膜的外觀特性.第5節:比色法(測量)(勘誤1)
德國標準化學會，關于薄膜 測量的標準
- DIN IEC/TS 62607-5-1-2014 納米加工.關鍵控制特性.第5-1部分:薄膜有機/納米電子設備.載體運輸測量(IEC 113/183/CD-2013)
- DIN EN 61788-17-2013 超導性.第17部分:電氣特性測量值.大面積超導薄膜的局部臨界電流密度及其分布(IEC 61788-17-2013).德文版本EN 61788-17-2013
- DIN EN 16283-2013 包裝. 鋁軟管. 測量刺穿薄膜作用力的試驗方法; 德文版本EN 16283-2013
- DIN EN 62047-14-2012 半導體裝置.微電機裝置.第14部分:金屬薄膜材料的成型極限測量方法(IEC 62047-14-2012).德文版本EN 62047-14-2012
- DIN EN 61788-15-2012 超導性.第15部分:電子特性測量.微波頻率下超導薄膜的固有表面阻抗(IEC 61788-15-2011).德文版本EN 61788-15-2011
- DIN EN 62047-8-2011 半導體設備.微機電設備.第8部分:薄膜拉伸性能測量用帶彎曲試驗方法(IEC 62047-8-2011).德文版 EN 62047-8-2011
- DIN EN 13048-2009 包裝.鋁軟管.內部清漆薄膜厚度測量方法.英文版本DIN EN 13048-2009-08
- PAS 1022-2004 檢測材料及介電材料性質以及用橢偏儀測量薄膜層厚度的參考程序
- DIN IEC 60746-4-1996 電化學分析儀性能表示方法.第4部分:用包有薄膜的電流傳感器測量水中的溶解氧
- DIN EN 26591-2-1993 包裝.包裝袋.說明及測量方法.第2部分:熱塑柔性薄膜空袋
法國標準化協會，關于薄膜 測量的標準
- NF C31-888-17-2013 超導性.第17部分:電氣特性測量值.大面積超導薄膜的局部臨界電流密度及其分布
- NF C96-050-14-2012 半導體裝置.微電機裝置.第14部分:金屬薄膜材料的成形極限測量方法
- NF C31-888-15-2012 超導性.第15部分:電子特性測量.微波頻率下超導薄膜的固有表面阻抗
- NF C96-050-8-2011 半導體裝置.微機電裝置.第8部分:用鋼帶彎曲試驗法測量薄膜的拉伸性能.
- NF T54-199-1999 塑料.工業用聚合物制成的薄膜和薄片.著色薄膜或薄片的光投射縮小比測量.
- NF M08-019-1996 輕質碳氫化合物制冷液.船上薄膜式罐和柱型罐的標定.物理測量法
- NF P84-505-1993 地膜."標準覆地薄膜砂"直接剪切角的測量
- NF T30-124-1991 涂料和清漆 .干性薄膜厚度測量.磁通量無損測量法
- NF T60-182-1990 石油產品.用薄膜氧氣吸收法(Tfout)測量汽油車輛發動機機油氧化穩定性的試驗方法
- NF T30-121-1974 涂料.干性薄膜厚度的測定.千分尺測量法
韓國標準，關于薄膜 測量的標準
- KS T ISO 6591-2-2012 熱塑柔性薄膜袋的尺寸標識與測量方法
- KS C 2150-2008 在高頻帶(500MHz?10GHz)的介電常數和介電損耗測量的介電薄膜的方法
- KS C 2150-2008 在高頻帶(500MHz?10GHz)的介電常數和介電損耗測量的介電薄膜的方法
- KS C 6111-3-2007 超導電子特性的測量.高溫超導薄膜的高頻固有表面阻抗測量方法
- KS C 6111-3-2007 超導電子特性的測量.高溫超導薄膜的高頻固有表面阻抗測量方法
- KS M ISO 8311-2003 輕質碳氫化合物制冷液.船上薄膜式罐和柱型罐的標定.物理測量法
- KS M ISO 8311-2003 輕質碳氫化合物制冷液.船上薄膜式罐和柱型罐的標定.物理測量法
- KS M ISO 5989-2002 塑料.薄膜和薄板.電暈處理薄膜的水接觸角度的測量
歐洲電工標準化委員會，關于薄膜 測量的標準
- EN 62047-8-2011 半導體器件.微型電機裝置.第8部分:薄膜拉力特性測量的帶狀抗彎試驗
歐洲標準化委員會，關于薄膜 測量的標準
- EN 13048-2009 包裝.鋁軟管.內部清漆薄膜厚度測量方法
- EN 13048-2000 包裝.鋁軟管.內部清漆薄膜厚度測量方法
- EN 26591-2-1992 包裝.袋.描述和測量法.第2部分:熱塑軟薄膜空袋
行業標準-電子，關于薄膜 測量的標準
- SJ/T 11207-1999 釔鐵石榴石單晶磁性薄膜磁特性的測量方法
澳大利亞標準協會，關于薄膜 測量的標準
- AS/NZS 1580.602.2-1995 油漆及類似材料 測試方法 20度、60度和85度條件下進行非金屬性油漆薄膜鏡面光澤測量
丹麥標準化協會，關于薄膜 測量的標準
- DS/ISO 6591/2-1987 包裝.包裝袋.測量方法和描述.第2部分:熱塑軟薄膜制成的空袋
