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レーザー裝置

レーザー裝置は全部で 104 項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)に関連している。

レーザー裝置 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類において、これらの分類:オプトエレクトロニクス、レーザー裝置、 醫(yī)療機(jī)器、 建材、 語(yǔ)彙、 文字記號(hào)、 グラフィックシンボル、 検査醫(yī)學(xué)、 製品の技術(shù)ドキュメント、 光ファイバー通信、 溶接、ロウ付け、低溫溶接。


General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, レーザー裝置

  • GB/T 10320-2011 レーザー機(jī)器および設(shè)備の電気的安全性
  • GB 10320-1995 レーザー機(jī)器および設(shè)備の電気的安全性
  • GB 9706.20-2000 醫(yī)用電気機(jī)器パート 2; 診斷および治療用レーザー機(jī)器の安全性に関する特定の要件
  • GB/T 41569-2022 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器のレーザー設(shè)置文書の基本要件

Shaanxi Provincial Standard of the People's Republic of China, レーザー裝置

  • DB61/T 1208-2018 使用中の醫(yī)療用レーザー機(jī)器の検査仕様書

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), レーザー裝置

  • KS B ISO 11149:2013 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー裝置 非通信レーザー裝置用の光ファイバーコネクタ
  • KS B ISO 11149:2008 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー裝置 非通信レーザー裝置用の光ファイバーコネクタ
  • KS B ISO 11253-2015(2020) レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー機(jī)器 - メカニカルインターフェース
  • KS B ISO 11253-2020 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 ― レーザー裝置 ― メカニカルインターフェース
  • KS B ISO 11253:2015 レーザーおよびレーザー裝置 レーザー裝置の機(jī)械的インターフェイス
  • KS B ISO 11253:2003 レーザーおよびレーザー裝置、レーザーデバイス、機(jī)械的インターフェース
  • KS B ISO 11253:2013 レーザーおよびレーザー裝置、レーザーデバイス、機(jī)械的インターフェース
  • KS B ISO 11252:2020 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー機(jī)器 - 文書の最小要件
  • KS B ISO 11252:2002 レーザーとレーザー裝置、レーザーの設(shè)置、文書の最小要件
  • KS B ISO 11252:2015 レーザーおよびレーザー機(jī)器 レーザー設(shè)置に関する最小要件 ドキュメント
  • KS B ISO 11145:2015 光學(xué)とフォトニクス、レーザーとレーザー裝置、語(yǔ)彙と表記法
  • KS B ISO 12005:2015 レーザーおよびレーザー裝置のレーザービームパラメータの試験方法 偏光
  • KS B ISO 12005:2003 レーザーおよびレーザー裝置 レーザービームパラメータの試験方法 偏光
  • KS B ISO 12005:2013 レーザーおよびレーザー裝置 レーザービームパラメータの試験方法 偏光
  • KS B ISO 11145:2001 光學(xué)とフォトニクス、レーザーとレーザー裝置、語(yǔ)彙と表記法
  • KS B ISO 11670:2015 レーザーおよびレーザー裝置のレーザービームパラメータの試験方法 ビーム位置の安定性
  • KS B ISO 11670:2003 レーザーおよびレーザー裝置 レーザービームパラメータの試験方法 ビーム位置の安定性
  • KS B ISO 11670:2013 レーザーおよびレーザー裝置 レーザービームパラメータの試験方法 ビーム位置の安定性
  • KS B ISO 11551:2003 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー裝置 光學(xué)レーザーコンポーネントの光吸収の試験方法

International Organization for Standardization (ISO), レーザー裝置

  • ISO 11149:1997 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー裝置 非通信レーザー裝置用光ファイバーコネクタ
  • ISO 11253:1993 レーザーおよびレーザー裝置 レーザー裝置の機(jī)械的インターフェイス
  • ISO 11145:2016 光學(xué)とフォトニクス、レーザーとレーザー裝置、語(yǔ)彙と表記法
  • ISO 11252:2004 レーザーとレーザー裝置、レーザーの設(shè)置、文書の最小要件
  • ISO 12005:2003 レーザーおよびレーザー裝置 レーザービームパラメータの試験方法 偏光
  • ISO 12005:1999 レーザーおよびレーザー裝置のレーザービームパラメータの試験方法 偏光
  • ISO 11252:1993 レーザーおよびレーザー裝置 レーザー設(shè)置に関する最小限の文書要件
  • ISO 11145:2006 光學(xué)とフォトニクス、レーザーとレーザー裝置、語(yǔ)彙と表記法
  • ISO 11990:1999 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー機(jī)器カテーテル レーザー耐性の測(cè)定
  • ISO 11990:2003 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー裝置 気管幹のレーザー耐性の測(cè)定
  • ISO 11670:1999 レーザーおよびレーザー裝置のレーザービームパラメータの試験方法 ビーム位置の安定性
  • ISO 11670:2003 レーザーおよびレーザー裝置 レーザービームパラメータの試験方法 ビーム位置の安定性
  • ISO 11551:1997 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー裝置 光學(xué)レーザーコンポーネント 光吸収の試験方法

Association Francaise de Normalisation, レーザー裝置

  • NF EN 50689:2021 レーザー裝置の安全性 公共レーザー裝置に対する特定の要件
  • NF EN ISO 11145:2018 Optical and Photonic Lasers and Laser Equipment Association の語(yǔ)彙と記號(hào)
  • NF EN 60825-4/A2:2011 レーザー機(jī)器の安全性パート 4: レーザープロテクター
  • NF EN 60825-4/A1:2008 レーザー機(jī)器の安全性 - パート 4: レーザー保護(hù)カバー
  • NF EN 60825-4:2006 レーザー機(jī)器の安全性パート 4: レーザープロテクター
  • NF S10-102:1997 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 非通信レーザー機(jī)器用光ファイバーコネクタ
  • NF S10-122*NF EN ISO 11670:2003 レーザーおよびレーザー裝置のレーザービームパラメーターのテスト方法: ビーム位置の安定性

British Standards Institution (BSI), レーザー裝置

  • BS EN ISO 11551:2004 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器、レーザーおよびレーザー裝置
  • BS EN ISO 11252:2008 レーザーおよび関連レーザー機(jī)器、レーザーの設(shè)置、文書の最小要件
  • BS EN ISO 11252:2013 レーザーおよび関連レーザー機(jī)器、レーザーの設(shè)置、文書の最小要件
  • BS EN ISO 11252:2009 レーザーおよび関連レーザー機(jī)器 レーザー設(shè)置のための最小文書要件

European Committee for Standardization (CEN), レーザー裝置

  • EN ISO 11149:1997 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー裝置 非通信レーザー裝置用光ファイバーコネクタ ISO 11149-1997
  • EN 31253:1994 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 レーザー機(jī)器への機(jī)械的インターフェース (ISO 11253:1993)
  • EN 31252:1994 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 レーザー機(jī)器文書の最小要件 (ISO 11252:1993)
  • EN ISO 11145:1994 光學(xué)とフォトニクス、レーザーとレーザー裝置、語(yǔ)彙と表記法
  • EN ISO 11145:2008 光學(xué)とフォトニクス、レーザーとレーザー裝置、語(yǔ)彙と表記法
  • EN ISO 11145:2001 光學(xué)とフォトニクス、レーザーとレーザー裝置、語(yǔ)彙と表記法
  • EN ISO 11252:2013 レーザーとレーザー裝置、レーザーの設(shè)置、文書の最小要件
  • EN ISO 11990:1999 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー機(jī)器カテーテル レーザー耐性の測(cè)定
  • EN ISO 11551:1997 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー裝置 光學(xué)レーザーコンポーネントの光吸収の試験方法
  • EN ISO 11551:2019 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー裝置 光學(xué)レーザーコンポーネントの光吸収の試験方法

YU-JUS, レーザー裝置

  • JUS N.S9.003-1987 レーザ。 レーザー機(jī)器の識(shí)別。 屋內(nèi)および屋外環(huán)境
  • JUS N.S9.002-1987 レーザー放射線防護(hù)に関連するレーザーおよびレーザー裝置の分類

Danish Standards Foundation, レーザー裝置

  • DS/EN ISO 11252:2013 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 レーザー機(jī)器のドキュメントの最小要件

KR-KS, レーザー裝置

  • KS B ISO 11252-2020 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー機(jī)器 - 文書の最小要件

German Institute for Standardization, レーザー裝置

  • DIN EN ISO 11252:2014-02 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 レーザー機(jī)器のドキュメントの最小要件
  • DIN EN ISO 11551:2004 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー裝置 光學(xué)レーザーコンポーネントの光吸収の試験方法

SCC, レーザー裝置

  • NS-ISO 11252:1993 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー裝置 - 文書の最小要件
  • DANSK DS/EN ISO 11252:2013 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー裝置 - 文書の最小要件
  • NS-EN ISO 11252:2004 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー裝置 - 文書化の最小要件 (ISO 11252:2004)
  • NS-EN ISO 11252:2008 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー裝置 - 文書化の最小要件 (ISO 11252:2004)
  • NS-EN ISO 11252:2013 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 — レーザー裝置 — 文書化の最小要件 (ISO 11252:2013)
  • DIN EN ISO 11252 E:2010 文書草案 - レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー裝置 - 文書化の最小要件 (ISO/DIS 11252:2010)。 ISO 11252:2010 より前のドイツ語(yǔ)版
  • BS IEC 60825-8:1999 レーザー製品の安全性 - 醫(yī)療用レーザー機(jī)器の安全な使用に関するガイドライン

GSO, レーザー裝置

  • OS GSO ISO 11252:2011 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー裝置 - 文書の最小要件

Professional Standard - Medicine, レーザー裝置

  • YY 1301-2016 レーザー治療裝置 エルビウムレーザー治療機(jī)
  • YY 0983-2016 レーザー治療裝置 ルビーレーザー治療機(jī)
  • YY 0845-2011 レーザー治療裝置 半導(dǎo)體レーザー光線力學(xué)治療器
  • YY 1289-2016 レーザー治療裝置 眼科用半導(dǎo)體レーザー光凝固裝置
  • YY 0844-2011 レーザー治療裝置 パルス炭酸ガスレーザー治療機(jī)
  • YY 0789-2024 レーザー治療裝置 Qスイッチ眼科レーザー治療機(jī)
  • YY 0846-2011 レーザー治療裝置 ホルミウムドープイットリウムアルミニウムガーネットレーザー治療機(jī)

BE-NBN, レーザー裝置

CEN - European Committee for Standardization, レーザー裝置

  • EN ISO 11252:2004 レーザーとレーザー裝置、レーザーの設(shè)置、文書の最小要件
  • EN ISO 11145:2018 光學(xué)とフォトニクス、レーザーとレーザー裝置、語(yǔ)彙と表記法
  • EN ISO 11145:2006 光學(xué)とフォトニクス、レーザーとレーザー裝置、語(yǔ)彙と表記法
  • EN ISO 11252:2008 レーザーとレーザー裝置、レーザーの設(shè)置、文書の最小要件
  • EN ISO 11990:2003 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー機(jī)器カテーテル レーザー耐性の測(cè)定
  • EN ISO 11990:2018 光學(xué)および光學(xué)機(jī)器 レーザーおよびレーザー機(jī)器カテーテル レーザー耐性の測(cè)定

Spanish Association for Standardization (UNE), レーザー裝置

  • UNE-EN ISO 11252:2008 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー裝置 - 文書化の最小要件 (ISO 11252:2004)
  • UNE-EN ISO 11252:2013 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 レーザー機(jī)器文書の最小要件 (ISO 11252:2013)
  • UNE-EN ISO 11252:2005 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 - レーザー裝置 - 文書化の最小要件 (ISO 11252:2004)

Lithuanian Standards Office , レーザー裝置

  • LST EN ISO 11252:2008 レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 レーザー機(jī)器文書の最小要件 (ISO 11252:2004)

American National Standards Institute (ANSI), レーザー裝置

RU-GOST R, レーザー裝置

  • GOST R ISO 11252-2016 光學(xué)およびフォトニクス レーザーおよびレーザー関連機(jī)器 レーザー機(jī)器 文書の最小要件

Electronic Industrial Alliance (U.S.), レーザー裝置

  • EIA LEB1-1970 レーザー機(jī)器および設(shè)置の安全分類
  • EIA LEB3-1976 HEW BRH 説明書、レーザー機(jī)器報(bào)告書提出ガイドライン

TIA - Telecommunications Industry Association, レーザー裝置

  • LEB 1-1970 レーザー機(jī)器およびデバイスの安全分類
  • LEB 3-1976 HEW BRH レーザー裝置レポート提出ガイドラインの解釈

Group Standards of the People's Republic of China, レーザー裝置

  • T/JGXH 002-2018 レーザー機(jī)器の電気的安全保護(hù)の仕様
  • T/JGXH 001-2018 レーザー機(jī)器の機(jī)械的安全保護(hù)の仕様
  • T/JSIES 001-2021 高出力レーザー加工裝置の光放射線保護(hù)要件
  • T/GDMES 0009.1-2021 レーザー溶接裝置 透過(guò)型プラスチックレーザー溶接裝置
  • T/GDMES 0009.2-2021 透明プラスチック用レーザー溶接裝置 レーザー溶接裝置

(U.S.) Telecommunications Industries Association?, レーザー裝置

  • TIA LEB 1-1970 レーザー機(jī)器およびデバイスの安全分類




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