DIN ISO 24173:2013-04
微束分析 使用電子背散射衍射進(jìn)行取向測(cè)量的指南
Microbeam analysis - Guidelines for orientation measurement using electron backscatter diffraction (ISO 24713:2009)
- 標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
- DIN ISO 24173:2013-04
- 發(fā)布
- 2013年
- 發(fā)布單位
- 德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì)
- 當(dāng)前最新
- DIN ISO 24173:2013-04
專題
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金屬和合金微觀分析常用技術(shù)盤點(diǎn)
例如，將掃描電鏡和X射線能譜(EDS)配合使用，可在觀察微觀結(jié)構(gòu)的同時(shí)，分析樣品的元素成分以及在相應(yīng)視野內(nèi)的元素分析?！ ⊥干潆婄R(TEM) 用聚焦電子束作照明源，使用于對(duì)電子束透明的薄膜試樣，以透過(guò)試樣的透射電子束或衍射電子束所形成的圖像來(lái)分析試樣內(nèi)部的顯微組織結(jié)構(gòu)。 ...
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,yanyunjie514@263.net.cn）分類標(biāo)簽：SEM EBSD EDS FIB 3D 掃描電鏡 聚焦離子束 能譜儀 電子背散射衍射 3D圖像 3D成分 3D晶體取向 微納加工 沉積 焊接 TEM樣品制備 Grid制備 二次電子 背散射電子 二次電子像 背散射電子像 成分分析 織構(gòu)分析 晶體取向分析 點(diǎn)分析 線分析 面分布技術(shù)指標(biāo)：二次電子像：1.0nm@15kV，1.9nm@1.0kV...
Zeiss FIB聚焦離子束共享應(yīng)用
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